Выпуски журналаIssues of the journal

 
К списку номеров Back to the list
К оглавлению Back to Contents
номер страницы: 22page number: 22

ХИМИЧЕСКОЕ РАСПЫЛЕНИЕ УГЛЕРОДНЫХ И ГРАФИТОВЫХ МАТЕРИАЛОВ В ПОТОКАХ КИСЛОРОДНОЙ ПЛАЗМЫ

Резюме: Resume:
Исследовано химическое распыление различных типов углеродных и графитовых материалов в потоках кислородной плазмы с энергией частиц менее 100 эВ. Для нелегированных материалов зависимость коэффициента химического распыления от структуры выражено слабо. Коэффициент распыления легированных бором материалов снижается по мере степени его легирования. С помощью растрового электронного микроскопа исследован рельеф поверхности ряда углеродных материалов.

Ключевые слова: химическое распыление, коэффициента химического распыления, углеродные материалы, кислородная плазма, структура, растровый электронный микроскоп.

№4  -2009 г.

Авторы: Authors:
В. Н. Черник, А. И. Акишин, Л. С. Новиков, Г. Г. Бондаренко, А. И. Гайдар, Ю. С. Виргильев e-mail: akishin@hep.sinp.msu.ru