Выпуски журналаIssues of the journal

 
К списку номеров Back to the list
К оглавлению Back to Contents
номер страницы: 33page number: 33

ПРОЧНОСТЬ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО CVD-АЛМАЗА ОПТИЧЕСКОГО КАЧЕСТВА

Резюме: Resume:
Трехточечным квазистатическим методом измерена прочность на изгиб sf пластин поликристаллического CVD-алмаза толщиной h = 0,06 – 1,0 мм. Образцы оптического качества, выращенные в сверхвысокочастотной (СВЧ) плазме на Si-подложках в смесях CH4 – H2, являются структурно неоднородным материалом, в котором размер кристаллитов может отличаться (увеличиваться) на 1 – 2 порядка при переходе от подложечной к ростовой стороне. При приложении растягивающей нагрузки к мелкозернистой (подложечной) стороне пластин величина sf достигает sf @2200 МПа для наиболее тонких образцов, снижаясь с толщиной образцов вплоть до значений sf @ 600 МПа при h @ 1000 мкм. Предел прочности при растяжении крупнозернистой ростовой стороны образцов примерно в два раза ниже. Показано, что для исследованного материала в целом выполняется соотношение Холла – Петча — повышение прочности при измельчении зерен. Статистика разрушения описана с использованием распределения Вейбулла. Значения модуля Вейбулла m составили 6,4 и 4,5 при растяжении ростовой и подложечной сторон, соответственно. Измеренная величина модуля Юнга для CVD-алмаза составила Е = 1072 ± 153 ГПа.
Ключевые слова: CVD-алмаз, поликристаллический алмаз, прочность на изгиб, модуль Юнга, модуль Вейбулла.
№ 3 – 2011

Авторы: Authors:
В. Г. Ральченко, Э. Плейлер, Д. Н. Совык, В. И. Конов. E-mail: ralchenko@nsc.gpi.ru; sovyk@nsc.gpi.ru; vik@nsc.gpi.ru